Počet záznamů: 1
Measurement and modeling of plasma parameters in reactive high-power impulse magnetron sputtering of Ti in Ar/O.sub.2./sub. mixtures
- 1.
SYSNO 0486980 Název Measurement and modeling of plasma parameters in reactive high-power impulse magnetron sputtering of Ti in Ar/O2 mixtures Tvůrce(i) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Lundin, D. (FR)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Journal of Applied Physics. Roč. 121, č. 17 (2017), s. 1-7. - : AIP Publishing Číslo článku 171913 Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant GA15-00863S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika 608800, XE - země EU Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova reactive sputtering * HiPIMS * Langmuir probe * R-IRM model * plasma density * electron temperature Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0281686
Počet záznamů: 1