Počet záznamů: 1  

Measurement and modeling of plasma parameters in reactive high-power impulse magnetron sputtering of Ti in Ar/O.sub.2./sub. mixtures

  1. 1.
    SYSNO0486980
    NázevMeasurement and modeling of plasma parameters in reactive high-power impulse magnetron sputtering of Ti in Ar/O2 mixtures
    Tvůrce(i) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Lundin, D. (FR)
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok. Journal of Applied Physics. Roč. 121, č. 17 (2017), s. 1-7. - : AIP Publishing
    Číslo článku171913
    Druh dok.Článek v odborném periodiku
    Grant GA15-00863S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
    608800, XE - země EU
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    Jazyk dok.eng
    Země vyd.US
    Klíč.slova reactive sputtering * HiPIMS * Langmuir probe * R-IRM model * plasma density * electron temperature
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0281686
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.