Počet záznamů: 1
SMV-2017-23: Optimalizace nanolitografie
- 1.
SYSNO ASEP 0483025 Druh ASEP V - Výzkumná zpráva Zařazení RIV V – výzkumná zpráva Název SMV-2017-23: Optimalizace nanolitografie Překlad názvu SMV-2017-23: Optimization of nanolitography Tvůrce(i) Jákl, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Šerý, Mojmír (UPT-D) RID, SAICelkový počet autorů 2 Vyd. údaje Brno: Ústav experimentálnej fyziky SAV, 2017 Poč.str. 2 s. Forma vydání Tištěná - P Jazyk dok. cze - čeština Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova two photon photopolymerization ; laser beam shaping Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery Obor OECD Optics (including laser optics and quantum optics) Další zdroj neveřejné zdroje Anotace Zlepšení rozlišení dvoufotonové fotopolymerace pomocí odstranění optických aberací a optimalizace ohniska laserového svazku. Překlad anotace Two-photon photopolymerization technique was improved by decreasing optical aberrations and optimization of laser beam. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2018
Počet záznamů: 1