Počet záznamů: 1
ZnO thin films prepared by reactive magnetron sputtering
- 1.
SYSNO 0480529 Název ZnO thin films prepared by reactive magnetron sputtering Tvůrce(i) Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
Stuchlík, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Purkrt, Adam (FZU-D) RID
Chang, Yu-Ying (FZU-D)
Jirásek, Vít (FZU-D) RID
Prajzler, V. (CZ)
Štenclová, Pavla (FZU-D) ORCID
Nekvindová, P. (CZ)Zdroj.dok. NANOCON 2016. List of Abstracts. S. 33-33. - Ostrava : Tanger Ltd., 2016 / Shrbená J. Konference NANOCON 2016. International Conference /8./, 19.10.2016 - 21.10.2016, Brno Druh dok. Abstrakt Grant GC16-10429J GA ČR - Grantová agentura ČR KONNECT-007, CZ - Česká republika, KR - Jižní Korea Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Klíč.slova ZnO * reactive magnetron sputtering * plasma treatment * PDS * optical spectroscopy Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0276299
Počet záznamů: 1