Počet záznamů: 1
Cu-Si nanoobjects prepared by CVD on Cu/Cu.sub.5./sub.Si-substrates using various precursors (SiH.sub.4./sub., EtSiH.sub.3./sub., BuSiH.sub.3./sub.) with added H.sub.2./sub. or air
SYS 0479312 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103214648.0 014 $a 85014146269 $2 SCOPUS 014 $a 000398875000002 $2 WOS 017 $a 10.1016/j.jcrysgro.2017.02.019 $2 DOI 100 $a 20171011d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a NL 200 1-
$a Cu-Si nanoobjects prepared by CVD on Cu/Cu5Si-substrates using various precursors (SiH4, EtSiH3, BuSiH3) with added H2 or air 215 $a 6 s. $c P 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256941 $1 011 $a 0022-0248 $e 1873-5002 $1 200 1 $a Journal of Crystal Growth $v Roč. 465, May (2017), s. 6-11 $1 210 $c Elsevier 610 $a crystal morphology 610 $a nanostructures 610 $a chemical vapor deposition processes 610 $a alloys 700 -1
$3 cav_un_auth*0259525 $a Klementová $b Mariana $i Strukturní analýza $j Structural Analysis $p FZU-D $w Functional Metal Materials and Thin Films $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0275215 $a Krabáč $b Lubomír $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $p UCHP-M $w Department of Laser Chemistry $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0314075 $a Brázda $b Petr $i Strukturní analýza $j Structural Analysis $p FZU-D $w Structure Analysis $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0016073 $a Palatinus $b Lukáš $i Strukturní analýza $j Structural Analysis $p FZU-D $w Structure Analysis $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103249 $a Dřínek $b Vladislav $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $p UCHP-M $w Department of Laser Chemistry $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1