Počet záznamů: 1  

Souřadnicový interferometrický systém pro odměřování polohy vzorku elektronového litografu

  1. 1.
    SYSNO ASEP0449271
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevSouřadnicový interferometrický systém pro odměřování polohy vzorku elektronového litografu
    Překlad názvuCoordinate interferometric system for measuring the position of a sample of the electron lithograph
    Tvůrce(i) Holá, Miroslava (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Lazar, Josef (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Čížek, Martin (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Řeřucha, Šimon (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Číp, Ondřej (UPT-D) RID, SAI, ORCID
    Celkový počet autorů5
    Zdroj.dok.Sborník příspěvků multioborové konference LASER 55. - Brno : Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2015 - ISBN 978-80-87441-16-9
    Rozsah strans. 16-17
    Poč.str.2 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    AkceLASER 55
    Datum konání21.10.2015-23.10.2015
    Místo konáníTřešť
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.cze - čeština
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovacoherence optics ; interferometry ; coherent laser
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    CEPGB14-36681G GA ČR - Grantová agentura ČR
    TA02010711 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    TA01010995 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    TE01020233 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Institucionální podporaUPT-D - RVO:68081731
    AnotaceTento projekt se nazývá „Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie“. Řešitelem tohoto projektu je Vysoké učení technické v Brně/Fakulta strojního inženýrství a spoluřešitelé jsou ON Semiconductor Czech republic, s.r.o., Optaglio s.r.o., Tescan Brno, s.r.o. a Ústav přístrojové techniky AVČR, v.v.i.. V rámci tohoto projektu pracujeme na návrhu interferometrického odměřovacího systému, laserového zdroje a detekční techniky pro souřadnicové odměřování stolu elektronového litografu.
    Překlad anotaceThis project is called "Platform of advanced microscopic and spectroscopic techniques for nano and microtechnology." The coordinator of this project is the Brno University of Technology / Faculty of Mechanical Engineering and the co-investigators are ON Semiconductor Czech Republic, Ltd., Optaglio Ltd., Tescan Brno, Ltd. And the Institute of Scientific Instruments of the CAS, v. v. i.. In this project we are working on a design of an interferometric measuring system, laser source and detection techniques for a coordinate measuring system of the table of the electron beam lithography.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2016
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.