Počet záznamů: 1  

Study of Nucleation and Early Growth of Diamond on GaN

  1. 1.
    SYSNO ASEP0434718
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVZáznam nebyl označen do RIV
    Zařazení RIVNení vybrán druh dokumentu
    NázevStudy of Nucleation and Early Growth of Diamond on GaN
    Tvůrce(i) Ižák, Tibor (FZU-D) RID
    Babchenko, Oleg (FZU-D) RID, ORCID
    Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Vanko, G. (SK)
    Vojs, Marian (FZU-D)
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok.NANOCON 2014 Conference Proceedings. - Ostrava : Tanger, 2014 - ISBN 978-80-87294-55-0
    Poč.str.1 s.
    AkceInternational Conference NANOCON /6./
    Datum konání05.11.2014-07.11.2014
    Místo konáníBrno
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovadiamond films ; MWCVD ; GaN membranes ; c-HEMT ; heterostructures
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPGP14-16549P GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceIn this study we investigate the diamond growth on GaN substrates by microwave plasma CVD. We show that using a proper gas mixture is crucial a technological factor to keep the functionality of GaN HEMT devices. Addition of CO2 and N2 to CH4/H2 gas mixture is used to minimize damaging of GaN substrate. We also found that the gas mixture control the diamond morphology from nano- to polycrystalline character. Simultaneous study focuses on the diamond growth on GaN membranes. In this case, diamond nucleation is the most limiting technological step due to low mechanical stability of GaN membranes. We observed that standard nucleation techniques (ultrasonic seeding or bias enhanced nucleation) caused cracking of the membranes or not appropriate nucleation efficiency in the Z-depth of structures. Therefore we implemented PVA polymer consisting of diamond powder as seeding composite which resulted in a successful growth of diamond thin film.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2015
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.