Počet záznamů: 1
Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd).sub.3./sub. and Zr(thd).sub.4./sub
- 1.
SYSNO ASEP 0100075 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd)3 and Zr(thd)4./sub Překlad názvu Tlak nasycených par a měrná teplota organometalických prekurzorů Y(thd)3 and Zr(thd)4./sub Tvůrce(i) Fulem, Michal (FZU-D) RID, ORCID
Růžička, K. (CZ)
Růžička, V. (CZ)
Šimeček, Tomislav (FZU-D)
Hulicius, Eduard (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Pangrác, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Journal of Crystal Growth. - : Elsevier - ISSN 0022-0248
Roč. 264, - (2004), s. 192-200Poč.str. 9 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. NL - Nizozemsko Klíč. slova static method ; vapour pressure ; metalorganic chemical vapor deposition ; Y and Zr precursors ; .alpha.-diketonate complexes Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP KSK1010104 GA AV ČR - Akademie věd Anotace The vapour pressure of two metal organic precursors, Y(thd)3 and Zr(thd)4 used for metal organic chemical vapour deposition of high-temperature superconductor layers, was measured. The experimental data were fitted and represent updated values of the present day high-purity materials providing comparison with the previously published data Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2005
Počet záznamů: 1