Počet záznamů: 1
Deposition of Organosilicon Polymer Thin Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
- 1.
SYSNO ASEP 0047572 Druh ASEP H - Konferenční sborník (lokální konf.) Zařazení RIV Není vybrán druh dokumentu Název Deposition of Organosilicon Polymer Thin Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Překlad názvu Depozice organosilikonových tenkých vrstev pomocí PECVD Tvůrce(i) Zajíčková, L. (CZ)
Buršíková, V. (CZ)
Sťahel, P. (CZ)
Buršík, Jiří (UFM-A) RID, ORCID
Peřina, Vratislav (UJF-V) RID
Macková, Anna (UJF-V) RID, ORCID, SAI
Dubroka, A. (CZ)Vyd. údaje Pardubice: Univerzita Pardubice, 2006 Poč.str. 4 s. Akce International Conference of Solid State Chemistry /7./ Datum konání 24.09.2006-29.09.2006 Místo konání Pardubice Země CZ - Česká republika Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova organosilicon polymers ; PECVD ; surface analyses Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEZ AV0Z10480505 - UJF-V (2005-2011) AV0Z20410507 - UFM-A (2005-2011) Anotace doplnit Pracoviště Ústav jaderné fyziky Kontakt Markéta Sommerová, sommerova@ujf.cas.cz, Tel.: 266 173 228 Rok sběru 2007
Počet záznamů: 1