Počet záznamů: 1
Modification of cobalt oxide electrochemically deposited on stainless steel meshes with co-mn thin films prepared by magnetron sputtering: Effect of preparation method and application to ethanol oxidation.
SYS 0549564 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20231122150202.3 014 $a 85120033965 $2 SCOPUS 014 $a 000735620400001 $2 WOS 017 $a 10.3390/catal11121453 $2 DOI 100 $a 20211213d m y slo 03 ba 101 $a eng $d eng 102 $a CH 200 1-
$a Modification of cobalt oxide electrochemically deposited on stainless steel meshes with co-mn thin films prepared by magnetron sputtering: Effect of preparation method and application to ethanol oxidation. 215 $a 24 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0445483 $1 011 $e 2073-4344 $1 200 1 $a Catalysts $v Roč. 11, č. 12 (2021) $1 205 $a ONLINE $1 210 $c MDPI 610 $a cobalt–manganese oxides 610 $a magnetron sputtering 610 $a stainless steel meshes 610 $a thin film 700 -1
$3 cav_un_auth*0108020 $a Jirátová $b Květa $p UCHP-M $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $z K $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0364551 $a Perekrestov $b Roman $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $y UA $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0210759 $a Dvořáková $b M. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0108027 $a Balabánová $b Jana $p UCHP-M $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0287685 $a Koštejn $b Martin $p UCHP-M $i Oddělení laserové chemie $j Department of Laser Chemistry $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0019796 $a Veselý $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0233848 $a Topka $b Pavel $p UCHP-M $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103331 $a Pokorná $b Dana $p UCHP-M $i Oddělení laserové chemie $j Department of Laser Chemistry $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0015334 $a Kovanda $b F. $y CZ $4 070 856 $u https://www.mdpi.com/2073-4344/11/12/1453 $9 RIV
Počet záznamů: 1