Počet záznamů: 1
Speciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu
- 1.
SYSNO 0536218 Název Speciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu Překlad názvu Special photomask for image distortion measurement of projection optics Tvůrce(i) Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Fořt, Tomáš (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Úlehla, L. (CZ)
Moťka, L. (CZ)Vyd. údaje 2020 Poddruh Funkční vzorek Int.kód APL-2020-04 Technické parametry Motiv kovové masky obsahuje matici přesně velikých čtvercových útvarů sloužících ke kontrole nastavení výrobního procesu Ekonomické parametry Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz Název vlastníka Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. Číselná identifikace APL-2020-04 Druh dok. Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor Grant TN01000008 GA TA ČR - Technologická agentura ČR, CZ - Česká republika Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 Jazyk dok. cze Země vyd. CZ Klíč.slova e–beam lithography * reactive ion etching Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0314036
Počet záznamů: 1