Počet záznamů: 1
Speciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu
SYS 0536218 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103224940.2 100 $a 20201123d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Speciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu 210 $d 2020 541 $a Special photomask for image distortion measurement of projection optics $z eng 610 $a e–beam lithography 610 $a reactive ion etching 700 -1
$3 cav_un_auth*0287343 $a Krátký $b Stanislav $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101578 $a Kolařík $b Vladimír $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0258192 $a Fořt $b Tomáš $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $y CZ $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0301528 $a Chlumská $b Jana $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0342235 $a Úlehla $b L. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0406755 $a Moťka $b L. $y CZ
Počet záznamů: 1