Počet záznamů: 1
Spektroskopický systém pro systém hlubokého reaktivního leptání
- 1.
SYSNO ASEP 0499077 Druh ASEP L - Prototyp, funkční vzorek Zařazení RIV G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek) Poddruh RIV Funkční vzorek Název Spektroskopický systém pro systém hlubokého reaktivního leptání Překlad názvu Spectroscopic system for deep reactive ion etching system Tvůrce(i) Šilhan, Lukáš (UPT-D)
Šerý, Mojmír (UPT-D) RID, SAI
Maňka, Tadeáš (UPT-D) RID, ORCID, SAICelkový počet autorů 3 Rok vydání 2018 Int.kód APL-2018-16 Technické parametry Měřící systém slouží pro měření spektrální odezvy substrátu v systému hlubokého iontového reaktivního leptání. Systém je vybaven multimodovým optickým vláknem pro sběr signálu z plazmové komory, precizní optomechanickou částí pro rozklad signálu do spektrální oblasti. K detekci signálu je použit citlivý řádkový senzor. Ke zpracování měřených dat je využita mikroprocesorová jednotka s USB připojením ovládána programem v jazyce Python. Konstrukce je složena z tříosých kinematických držáků optických komponent (kolimátoru, koutových odražečů, děliče svazku a detekční jednotky). Nastavení optomechanických komponent je provedeno kinematickými závěsy s precizním nastavením. Pro minimalizaci teplotní roztažnosti je celá sestava vyrobena z duralové slitiny. Ekonomické parametry Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Lukáš Šilhan, silhan@isibrno.cz Název vlastníka Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. IČ vlastníka 68081731 Kat.výsl.dle nákl. A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Požad. na licenč. popl. N - Poskytovatel licence nepožaduje licenční poplatek Číselná identifikace APL-2018-16 Jazyk dok. cze - čeština Země vlastníka CZ - Česká republika Klíč. slova DRIE ; spectroscopy Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery Obor OECD Optics (including laser optics and quantum optics) CEP LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 Anotace Zařízení je určeno pro měření spektrální odezvy substrátu v systému hlubokého reaktivního leptání. Měřící systém nám umožňuje monitorovat chemické složení plazmového výboje v komoře, čímž nám umožňuje zastavit leptací proces po dosažení určité hloubky leptu a tím zpřesnit výrobu mikro a nanostruktur. Překlad anotace The device is designed to accurately measure spectral response of substrate in a deep reactive etching system. Measurements system can real time monitor chemical composition of plasma cloud in the chamber, allowing you to stop the etching process after reaching a certain depth of etching, thereby improving the production of micro and nanostructures. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2019
Počet záznamů: 1