Počet záznamů: 1  

Structural damage and ion-channelling effects in a single-crystal Si layer modified by medium-heavy ions

  1. 1.
    SYSNO ASEP0496726
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevStructural damage and ion-channelling effects in a single-crystal Si layer modified by medium-heavy ions
    Tvůrce(i) Mikšová, Romana (UJF-V) RID, ORCID, SAI
    Macková, Anna (UJF-V) RID, ORCID, SAI
    Jagerová, Adéla (UJF-V) ORCID, SAI
    Yatskiv, Roman (URE-Y) RID, ORCID
    Celkový počet autorů4
    Zdroj.dok.Surface and Interface Analysis. - : Wiley - ISSN 0142-2421
    Roč. 50, č. 11 (2018), s. 1243-1249
    Poč.str.7 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    Akce17th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis (ECASIA 2017)
    Datum konání24.09.2017 - 29.09.2017
    Místo konáníMonpellier
    ZeměFR - Francie
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovaion irradiation of crystals ; MC modelling of ion channeling ; RBS channeling ; SOI material
    Vědní obor RIVBG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače
    Obor OECDNuclear physics
    Vědní obor RIV – spolupráceÚstav fotoniky a elektroniky - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    CEPGA15-01602S GA ČR - Grantová agentura ČR
    EF16_013/0001812 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    LM2015056 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Institucionální podporaUJF-V - RVO:61389005 ; URE-Y - RVO:67985882
    UT WOS000448889600049
    EID SCOPUS85050581054
    DOI10.1002/sia.6492
    AnotaceStructural modification after medium-heavy ion irradiation was characterised by Rutherford backscattering spectrometry in the channelling mode (RBS-C) for silicon-on-insulator (SOI) material. Silicon on insulator was irradiated using C+, 2(+), N+, 2(+), and O+, 2(+) ions at fluences of 1 x 10(14) and 1 x 10(15) cm(-2) and energies of 0.4, 3, and 5 MeV to follow the interplay of electronic and nuclear stopping and its influence on damage accumulation. The relative amount of displaced atoms in the surface-irradiated layer was extracted from RBS-C spectra and used, along with axial channel analysis, to study ion-channelling effects in the modified crystalline lattice. The discussion of ion penetration through the modified crystalline layer of the SOI structure in channelling direction was supported by a Monte Carlo simulation (FLUX code) of He ion flux maps in a gradually modified Si crystalline upper layer taking into account the experimentally determined relative disorder extracted from RBS-C.

    The RBS-C measurement shows an increase of the relative amount of displaced atoms mainly after irradiation using 0.4-MeV ions at an ion fluence of 1 x 10(15) cm(-2). The narrowing effect of channels for He ion-beam channelling experiment was observed in the irradiated silicon layers and discussed in connection with the irradiation parameters. The FLUX simulation, provided with the experimentally given value of the displaced atoms, has confirmed that it is not only the vacancies that can cause such a narrowing effect of the angular scan. The angular scan narrowing can be explained for predominately electronic stopping by induced crystalline-cell modification.
    PracovištěÚstav jaderné fyziky
    KontaktMarkéta Sommerová, sommerova@ujf.cas.cz, Tel.: 266 173 228
    Rok sběru2019
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.