In situ XPS characterization of diamond films after AR.sup.+./sup. cluster ion beam sputtering

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0452710
Název	In situ XPS characterization of diamond films after AR⁺ cluster ion beam sputtering
Tvůrce(i)	Artemenko, Anna (FZU-D)_{RID, ORCID} Babchenko, Oleg (FZU-D)_{RID, ORCID} Kozak, Halyna (FZU-D)_{RID, ORCID} Ukraintsev, Egor (FZU-D)_{RID, ORCID} Ižák, Tibor (FZU-D)_RID Romanyuk, Olexandr (FZU-D)_{RID, ORCID} Potocký, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Kromka, Alexander (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	NANOCON 2015: 7th International Conference on Nanomaterials - Research and Application, Conference Proceedings. S. 605-610. - Ostrava : TANGER, spol. s r.o., 2015
Konference	NANOCON 2015. International Conference /7./, 14.10.2015, Brno - 16.10.2015
Druh dok.	Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Grant	GA15-01687S GA ČR - Grantová agentura ČR
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	CZ
Klíč.slova	diamond * depth profiling * XPS * sputtering * Raman
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0253621

Počet záznamů: 1