Počet záznamů: 1
In situ XPS characterization of diamond films after AR.sup.+./sup. cluster ion beam sputtering
- 1.
SYSNO ASEP 0452710 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název In situ XPS characterization of diamond films after AR+ cluster ion beam sputtering Tvůrce(i) Artemenko, Anna (FZU-D) RID, ORCID
Babchenko, Oleg (FZU-D) RID, ORCID
Kozak, Halyna (FZU-D) RID, ORCID
Ukraintsev, Egor (FZU-D) RID, ORCID
Ižák, Tibor (FZU-D) RID
Romanyuk, Olexandr (FZU-D) RID, ORCID
Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. NANOCON 2015: 7th International Conference on Nanomaterials - Research and Application, Conference Proceedings. - Ostrava : TANGER, spol. s r.o., 2015 - ISBN 978-80-87294-63-5 Rozsah stran s. 605-610 Poč.str. 6 s. Forma vydání Nosič - C Akce NANOCON 2015. International Conference /7./ Datum konání 14.10.2015 - 16.10.2015 Místo konání Brno Země CZ - Česká republika Typ akce EUR Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova diamond ; depth profiling ; XPS ; sputtering ; Raman Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus Obor OECD Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.) CEP GA15-01687S GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000374708800105 EID SCOPUS 84962891345 Anotace In this work, in situ XPS analysis of chemical composition of H- and O-terminated nano- and microcrystalline diamond (NCD and MCD) films before and after their sputtering by the Ar+ cluster ion beam was investigated. Scanning electron microscopy confirmed sputtering of all diamond surfaces with a rate about 0.5 nm/min. Raman spectroscopy and XPS revealed surface graphitization of diamond surface induced by sputtering. Moreover, XPS data showed the presence of about 0.7 % of Ar atoms on the investigated diamond surface after 66 min of sputtering. Also, oxygen residuals were still presented on the H-NCD surface after 66 min of sputtering. In contrast, no oxygen was found on the H-MCD surface just after 2 min of sputtering. Surface composition is discussed in respect to the diamond films growth parameters and surface structure. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2016
Počet záznamů: 1