Počet záznamů: 1  

In situ XPS characterization of diamond films after AR.sup.+./sup. cluster ion beam sputtering

  1. 1.
    SYSNO ASEP0452710
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevIn situ XPS characterization of diamond films after AR+ cluster ion beam sputtering
    Tvůrce(i) Artemenko, Anna (FZU-D) RID, ORCID
    Babchenko, Oleg (FZU-D) RID, ORCID
    Kozak, Halyna (FZU-D) RID, ORCID
    Ukraintsev, Egor (FZU-D) RID, ORCID
    Ižák, Tibor (FZU-D) RID
    Romanyuk, Olexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok.NANOCON 2015: 7th International Conference on Nanomaterials - Research and Application, Conference Proceedings. - Ostrava : TANGER, spol. s r.o., 2015 - ISBN 978-80-87294-63-5
    Rozsah strans. 605-610
    Poč.str.6 s.
    Forma vydáníNosič - C
    AkceNANOCON 2015. International Conference /7./
    Datum konání14.10.2015 - 16.10.2015
    Místo konáníBrno
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovadiamond ; depth profiling ; XPS ; sputtering ; Raman
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    CEPGA15-01687S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000374708800105
    EID SCOPUS84962891345
    AnotaceIn this work, in situ XPS analysis of chemical composition of H- and O-terminated nano- and microcrystalline diamond (NCD and MCD) films before and after their sputtering by the Ar+ cluster ion beam was investigated. Scanning electron microscopy confirmed sputtering of all diamond surfaces with a rate about 0.5 nm/min. Raman spectroscopy and XPS revealed surface graphitization of diamond surface induced by sputtering. Moreover, XPS data showed the presence of about 0.7 % of Ar atoms on the investigated diamond surface after 66 min of sputtering. Also, oxygen residuals were still presented on the H-NCD surface after 66 min of sputtering. In contrast, no oxygen was found on the H-MCD surface just after 2 min of sputtering. Surface composition is discussed in respect to the diamond films growth parameters and surface structure.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2016
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.