Počet záznamů: 1
New 3-dimensional nanostructured thin film silicon solar cells
- 1.
SYSNO ASEP 0355137 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název New 3-dimensional nanostructured thin film silicon solar cells Tvůrce(i) Vaněček, Milan (FZU-D) RID
Neykova, Neda (FZU-D) RID, ORCID
Babchenko, Oleg (FZU-D) RID, ORCID
Purkrt, Adam (FZU-D) RID
Poruba, Aleš (FZU-D) RID
Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
Holovský, Jakub (FZU-D) RID, ORCID
Hruška, Karel (FZU-D) RID, ORCID
Meier, J. (CH)
Kroll, U. (CH)Celkový počet autorů 10 Zdroj.dok. Proceedings of the 25th European Photovoltaic Solar Energy Conference / 5th World Conference on Photovoltaic Energy Conversion. - München : WIP-Renewable energies, 2010 - ISBN 3-936338-26-4 Rozsah stran s. 2763-2766 Poč.str. 4 s. Akce European Photovoltaic Solar Energy Conference /25./ and World Conference on Photovoltaic Energy Conversion /5./ Datum konání 06.09.2010-10.09.2010 Místo konání Valencia Země ES - Španělsko Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. DE - Německo Klíč. slova thin film solar cells, ; TCO transparent conductive oxides ; a-Si ; high stable efficiency, ; ZnO Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP 7E09057 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011) Anotace We present a “bottom up” approach for deposition of ZnO nanocolumns by direct low temperature hydrothermal synthesis and the results of complementary design with nano- or micro-holes etched into the ZnO (“Swiss cheese” design). Electron beam lithography was used for defining the openings in resist for selective ZnO nanocolumns growth in the first case, optical lithography and reactive ion etching have been used to fabricate the holes into ZnO substrate in the later case. Monte Carlo modeling of these new, 3D solar cells, using already existing materials is presented. Calculations show that stable efficiency of amorphous silicon p-i-n solar cells in over 12% range is possible and for the Micromorph cells efficiency can reach over 15%, with the layer thickness of amorphous Si below 200 nm and microcrystalline Si around 500 nm. The first “proof of concept” Micromorph cell with the “Swiss cheese” design is presented. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2011
Počet záznamů: 1