Počet záznamů: 1  

Measuring the ion flux to the deposition substrate in the hollow Cathode plasma jet

  1. 1.
    SYSNO0308119
    NázevMeasuring the ion flux to the deposition substrate in the hollow Cathode plasma jet
    Překlad názvuMěření iontového toku na depoziční substrát u plazmové trysky s efektem duté katody
    Tvůrce(i) Virostko, Petr (FZU-D)
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
    Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Tichý, M. (CZ)
    Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
    Zdroj.dok. Plasma 2007. S. 427-430. - Melville, New York : American Instritute of Physics, 2008 / Hartfuss H.-J. ; Dudeck M. ; Muslelok J. ; Sadowski M.J.
    Konference International Conference on Research and Applications of Plasmas, German-Polish Conference on Plasma Diagnostics for Fusion and Laboratory /4./ and French-Polish Seminar on Thermal Plasma in Space and Laboratory /6./, Greifswald, 16.10.2007-19.10.2007
    Druh dok.Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Grant KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd
    1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
    KAN400720701 GA AV ČR - Akademie věd
    GA202/06/0776 GA ČR - Grantová agentura ČR
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    Jazyk dok.eng
    Země vyd.US
    Klíč.slova hollow cathode * plasma jet * ion flux * deposition of thin films
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0160694
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.