Počet záznamů: 1
Measuring the ion flux to the deposition substrate in the hollow Cathode plasma jet
- 1.
SYSNO 0308119 Název Measuring the ion flux to the deposition substrate in the hollow Cathode plasma jet Překlad názvu Měření iontového toku na depoziční substrát u plazmové trysky s efektem duté katody Tvůrce(i) Virostko, Petr (FZU-D)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Tichý, M. (CZ)
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCIDZdroj.dok. Plasma 2007. S. 427-430. - Melville, New York : American Instritute of Physics, 2008 / Hartfuss H.-J. ; Dudeck M. ; Muslelok J. ; Sadowski M.J. Konference International Conference on Research and Applications of Plasmas, German-Polish Conference on Plasma Diagnostics for Fusion and Laboratory /4./ and French-Polish Seminar on Thermal Plasma in Space and Laboratory /6./, Greifswald, 16.10.2007-19.10.2007 Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) Grant KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd 1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika KAN400720701 GA AV ČR - Akademie věd GA202/06/0776 GA ČR - Grantová agentura ČR CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova hollow cathode * plasma jet * ion flux * deposition of thin films Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0160694
Počet záznamů: 1