Počet záznamů: 1
Measuring the ion flux to the deposition substrate in the hollow Cathode plasma jet
- 1.
SYSNO ASEP 0308119 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Measuring the ion flux to the deposition substrate in the hollow Cathode plasma jet Překlad názvu Měření iontového toku na depoziční substrát u plazmové trysky s efektem duté katody Tvůrce(i) Virostko, Petr (FZU-D)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Tichý, M. (CZ)
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCIDZdroj.dok. Plasma 2007. - Melville, New York : American Instritute of Physics, 2008 / Hartfuss H.-J. ; Dudeck M. ; Muslelok J. ; Sadowski M.J. - ISBN 978-0-7354-0512-7 Rozsah stran s. 427-430 Poč.str. 4 s. Akce International Conference on Research and Applications of Plasmas, German-Polish Conference on Plasma Diagnostics for Fusion and Laboratory /4./ and French-Polish Seminar on Thermal Plasma in Space and Laboratory /6./ Datum konání 16.10.2007-19.10.2007 Místo konání Greifswald Země DE - Německo Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova hollow cathode ; plasma jet ; ion flux ; deposition of thin films Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd 1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy KAN400720701 GA AV ČR - Akademie věd GA202/06/0776 GA ČR - Grantová agentura ČR CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) UT WOS 000254902600091 Anotace Measurements of positive ion flux to a negatively biased substrate for deposition of TiOx thin films by the hollow cathode plasma jet system are presented. Different methods of obtaining the bias of substrate and measuring the resulting ion flux were used for different bias frequencies. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2008
Počet záznamů: 1