Počet záznamů: 1  

Thin layered graphitic carbon nitride for photochemical degradation in micro photoreactor.

    1.
    SYSNO ASEP0560698
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVZáznam nebyl označen do RIV
    Zařazení RIVNení vybrán druh dokumentu
    NázevThin layered graphitic carbon nitride for photochemical degradation in micro photoreactor.
    Tvůrce(i) Vanluchene, Anna RID, ORCID, SAI
    Stavárek, Petr (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Dolai, Susmita (UCHP-M) SAI
    Dzik, P. (CZ)
    Fajgar, Radek (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Soukup, Karel (UCHP-M) RID, SAI, ORCID
    Klusoň, Petr (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    AkceInternational Congress of Chemical and Process Engineering CHISA 2022 /26./
    Datum konání21.08.2022 - 25.08.2022
    Místo konáníPrague
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Klíč. slovaphotoreactor ; carbon ; photochemical degradation
    Obor OECDChemical process engineering
    Institucionální podporaUCHP-M - RVO:67985858
    PracovištěÚstav chemických procesů
    KontaktEva Jirsová, jirsova@icpf.cas.cz, Tel.: 220 390 227
    Rok sběru2023
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.

Přijmout všeNastaveníOdmítnout vše