Počet záznamů: 1
SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec
- 1.
SYSNO ASEP 0549960 Druh ASEP V - Výzkumná zpráva Zařazení RIV V – výzkumná zpráva Název SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec Překlad názvu SMV-2021-31: TELIGHT aiming pattern Tvůrce(i) Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAIVyd. údaje Brno: TELIGHT Brno, s.r.o., 2021 Poč.str. 8 s. Forma vydání Tištěná - P Jazyk dok. cze - čeština Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova e-beam lithography ; optics ; reactive ion etching Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery Obor OECD Optics (including laser optics and quantum optics) Další zdroj neveřejné zdroje Anotace Oblast vývoje se týká realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání. Vývoj technologie tvorby přesného fázového filtru planparalelního typu pro optické aplikace modifikací křemenných podložek pomocí přesného suchého leptání. Překlad anotace The field of development concerns the realization of precise relief structures using electron lithography and reactive ion etching. Development of technology for the creation of a precise phase filter of the plane-parallel type for optical applications by modification of quartz substrates by means of precise dry etching. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2022
Počet záznamů: 1