Počet záznamů: 1  

SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec

  1. 1.
    SYSNO ASEP0549960
    Druh ASEPV - Výzkumná zpráva
    Zařazení RIVV – výzkumná zpráva
    NázevSMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec
    Překlad názvuSMV-2021-31: TELIGHT aiming pattern
    Tvůrce(i) Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Vyd. údajeBrno: TELIGHT Brno, s.r.o., 2021
    Poč.str.8 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    Jazyk dok.cze - čeština
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovae-beam lithography ; optics ; reactive ion etching
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    Obor OECDOptics (including laser optics and quantum optics)
    Další zdrojneveřejné zdroje
    AnotaceOblast vývoje se týká realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání. Vývoj technologie tvorby přesného fázového filtru planparalelního typu pro optické aplikace modifikací křemenných podložek pomocí přesného suchého leptání.
    Překlad anotaceThe field of development concerns the realization of precise relief structures using electron lithography and reactive ion etching. Development of technology for the creation of a precise phase filter of the plane-parallel type for optical applications by modification of quartz substrates by means of precise dry etching.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2022
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.