Počet záznamů: 1
The changes induced on oriented ZnO surface by inductively coupled plasma (ICP)
- 1.
SYSNO ASEP 0549949 Druh ASEP A - Abstrakt Zařazení RIV O - Ostatní Název The changes induced on oriented ZnO surface by inductively coupled plasma (ICP) Tvůrce(i) Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
Artemenko, Anna (FZU-D) RID, ORCID
Ukraintsev, Egor (FZU-D) RID, ORCID
Rezek, B. (CZ)
Poruba, A. (CZ)
Hsu, H.S. (TW)
Mičová, J. (SK)Celkový počet autorů 7 Zdroj.dok. E-MRS Spring Meeting - Symposia & program Section N Current trends in optical and X-ray metrology of advanced materials for nanoscale devices VI. - Strasbourg : European Materials Research Society (E-MRS), 2021 Poč.str. 1 s. Forma vydání Online - E Akce 2021 Spring Meeting of the European Materials Research Society (E-MRS) Datum konání 31.05.2021 - 03.06.2021 Místo konání Virtual Země FR - Francie Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. FR - Francie Klíč. slova ICP ; ZnO ; XPS ; AFM Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus Obor OECD Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.) CEP EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GC19-02858J GA ČR - Grantová agentura ČR LM2018110 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Anotace The plasma treatment has been done in a novel inductively coupled plasma (ICP) quartz reactor recently developed in the cooperation with the Czech company SVCS Process Innovation s. r. o. in Valazske Mezirici. The reactor operates at the radio frequency 13.56 MHz with up to 300 W discharge power and H2, O2, N2 and Ar process gasses at low pressure about 20 Pa. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) showed contamination of plasma processed ZnO powder surface by silicon and fluorine from quartz walls and polytetrafluoroethylene (PFTE) sealing that disappeared after reducing a parasitic capacitive coupling between antenna and grounded stainless steel holder. We measure topography and surface potential of ZnO nanorods and monocrystalline ZnO samples after different plasma treatments by atomic force microscopy (AFM) and Kelvin probe force microscopy (KFPM). Preliminary results show similar morphology before and after plasma treatment, but different average surface potential values. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2022
Počet záznamů: 1