Počet záznamů: 1
Multitarget sputtering of PZT-containing mixed oxide thin films onto copper-coated kapton substrates
- 1.
SYSNO ASEP 0486358 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Multitarget sputtering of PZT-containing mixed oxide thin films onto copper-coated kapton substrates Tvůrce(i) Kleiner, A. (DE)
Suchaneck, G. (DE)
Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
Lavrentev, Vasyl (FZU-D)
Kiselev, D.A. (RU)
Gerlach, G. (DE)Celkový počet autorů 7 Číslo článku 6912320 Zdroj.dok. Proceedings of International Conference On Oxide Materials For Electronic Engineering (OMEE). - New York : IEEE, 2014 / Shpotyuk M.V. - ISBN 978-1-4799-5961-7 Rozsah stran s. 19-20 Poč.str. 2 s. Forma vydání Online - E Akce 2014 IEEE International Conference On Oxide Materials For Electronic Engineering (OMEE) Datum konání 26.05.2014 - 30.05.2014 Místo konání Lviv Země UA - Ukrajina Typ akce EUR Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova complex oxide film deposition ; multitarget reactive sputtering ; flexible polymer substrate ; composition profile ; piezoresponse force microscopy ; PZT Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000363330400002 EID SCOPUS 84908665137 DOI 10.1109/OMEE.2014.6912320 Anotace Large area film deposition was performed by means of multitarget reactive magnetron sputtering from 200 mm diameter metallic targets (Pb, Ti, Zr) onto Cu-coated Kapton HN substrates. High-power pulse sputtering has been employed for the Zr-target (or alternatively for the Ti-target). Film composition profiles were evaluated by XPS and RES. Piezoelectric properties were investigated by PFM. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2018
Počet záznamů: 1