Počet záznamů: 1  

Additive Injekt Pattering of Semiconductoring and UV-Absorbing Layer Stacks

  1. 1.
    SYSNO ASEP0393481
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevAdditive Injekt Pattering of Semiconductoring and UV-Absorbing Layer Stacks
    Tvůrce(i) Dzik, P. (CZ)
    Veselý, M. (CZ)
    Morozová, Magdalena (UCHP-M) RID, SAI
    Kubáč, L. (CZ)
    Klusoň, Petr (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok.Proceedings. - Prague : Typo Design, 2012 / Krýsa J. ; Klusoň P. - ISBN 978-80-7080-850-4
    Rozsah strans. 15-16
    Poč.str.2 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    AkceCzech-Austrian workshop: New Trends in Application of Photo and Electro Catalysis /5./
    Datum konání28.11.2012-30.11.2012
    Místo konáníHnanice
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovainject ; multilayer coatings ; titania
    Vědní obor RIVCI - Průmyslová chemie a chemické inženýrství
    Institucionální podporaUCHP-M - RVO:67985858
    AnotaceThese paper inpired futher cooperation of Brno and Prague teams resulting into a new project focusing onto the development of inject direct patternable titania coating based on the Prague team's original sol-gel reverse micelles dipcoated composition. Separate original research atricle giving detailed information on the sol development, optimization the photoexcitation properties of the TiO0 printed layers as well as on its photocatalytic aktivity have been published recently.
    PracovištěÚstav chemických procesů
    KontaktEva Jirsová, jirsova@icpf.cas.cz, Tel.: 220 390 227
    Rok sběru2014
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.