Počet záznamů: 1
Additive Injekt Pattering of Semiconductoring and UV-Absorbing Layer Stacks
- 1.
SYSNO ASEP 0393481 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Additive Injekt Pattering of Semiconductoring and UV-Absorbing Layer Stacks Tvůrce(i) Dzik, P. (CZ)
Veselý, M. (CZ)
Morozová, Magdalena (UCHP-M) RID, SAI
Kubáč, L. (CZ)
Klusoň, Petr (UCHP-M) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Proceedings. - Prague : Typo Design, 2012 / Krýsa J. ; Klusoň P. - ISBN 978-80-7080-850-4 Rozsah stran s. 15-16 Poč.str. 2 s. Forma vydání Tištěná - P Akce Czech-Austrian workshop: New Trends in Application of Photo and Electro Catalysis /5./ Datum konání 28.11.2012-30.11.2012 Místo konání Hnanice Země CZ - Česká republika Typ akce EUR Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova inject ; multilayer coatings ; titania Vědní obor RIV CI - Průmyslová chemie a chemické inženýrství Institucionální podpora UCHP-M - RVO:67985858 Anotace These paper inpired futher cooperation of Brno and Prague teams resulting into a new project focusing onto the development of inject direct patternable titania coating based on the Prague team's original sol-gel reverse micelles dipcoated composition. Separate original research atricle giving detailed information on the sol development, optimization the photoexcitation properties of the TiO0 printed layers as well as on its photocatalytic aktivity have been published recently. Pracoviště Ústav chemických procesů Kontakt Eva Jirsová, jirsova@icpf.cas.cz, Tel.: 220 390 227 Rok sběru 2014
Počet záznamů: 1