Počet záznamů: 1
Nanoparticles in hydrogenated silicon
- 1.
SYSNO ASEP 0391268 Druh ASEP A - Abstrakt Zařazení RIV Záznam nebyl označen do RIV Zařazení RIV Není vybrán druh dokumentu Název Nanoparticles in hydrogenated silicon Tvůrce(i) Stuchlík, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Stuchlíková, The-Ha (FZU-D) RID, ORCID
Dřínek, Vladislav (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
Kočka, Jan (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Development of Materials Science in Research and Education, Book of Abstracts of the 22nd Joint Seminar. - Praha : Czechoslovak Association for Crystal Growth (CSACG), 2012 / Kožíšek Z. ; Nitsch K. - ISBN 978-80-260-2357-9
S. 65-65Poč.str. 1 s. Akce Joint Seminar – Development of materials science in research and education /22./ Datum konání 03.09.2012-07.09.2012 Místo konání Lednice Země CZ - Česká republika Typ akce EUR Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova silicon thin films ; solar cells Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP GA203/09/1088 GA ČR - Grantová agentura ČR LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LH12236 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora UCHP-M - RVO:67985858 CEZ AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011) Anotace We developed the radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RF PE CVD) of hydrogenated silicon thin film in glow discharge of Silane diluted in Hydrogen. In the last years we have started to investigate the properties of nanoparticles embedded in the silicon matrix. We have observed that some nanoparticles can indeed be embedded in the silicon to create the quantum dots, whereas others lead to catalytic growth of silicon nanowires (Si-NW). Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2014
Počet záznamů: 1