Počet záznamů: 1
Cleaning of tungsten tips for subsequent cold field emission application
SYS 0584772 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240402215410.7 017 $2 DOI 100 $a 20240402d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a CZ 200 1-
$a Cleaning of tungsten tips for subsequent cold field emission application 215 $a 2 s. $c P 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0584771 $1 010 $a 978-80-214-6185-7 $1 200 1 $a IMAPS Flash Conference. 9th International Microelectronics Assembly and Packaging Society Flash Conference. Extended abstracts $v S. 50-51 $1 210 $a Brno $c Brno University of Technology, FEEC $d 2023 $1 702 1 $a Otáhal $b A. $4 340 $1 702 1 $a Szendiuch $b I. $4 340 $1 702 1 $a Skácel $b J. $4 340 610 $a Cleaning 610 $a Cold field emission 610 $a Tungsten tips 610 $a Macroetching 610 $a Hydrofluoric acid 700 -1
$3 cav_un_auth*0459316 $a Košelová $b Zuzana $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0245306 $a Horáková $b L. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0424280 $a Allaham $b Mohammad M. $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $y JO $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0383620 $a Burda $b Daniel $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0299810 $a Knápek $b Alexandr $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0298950 $a Fohlerová $b Z. $y CZ $4 070
Počet záznamů: 1