Počet záznamů: 1
Nelineární fázová maska pro výrobu vláknových filtrů s definovanou strmostí spektrální charakteristiky
- 1.
SYSNO ASEP 0566648 Druh ASEP L - Prototyp, funkční vzorek Zařazení RIV G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek) Poddruh RIV Funkční vzorek Název Nelineární fázová maska pro výrobu vláknových filtrů s definovanou strmostí spektrální charakteristiky Překlad názvu Apodized phase mask for the manufacture of fiber Bragg grating filter with defined transmission spectrum Tvůrce(i) Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Mikel, Břetislav (UPT-D) RID, SAI
Fořt, Tomáš (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Helán, R. (CZ)
Urban, F. (CZ)Rok vydání 2022 Int.kód APL-2022-30 Technické parametry Fázová difrakční maska s rozlišením periody 0,1 nm připravená v materiálu fused silica naladěná pro expozici světlem s vlnovou délkou 248 nm a přípravu nelineárního vláknového filtru. Ekonomické parametry Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz. Název vlastníka Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. IČ vlastníka 68081731 Kat.výsl.dle nákl. A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Požad. na licenč. popl. Z - Poskytovatel licence nepožaduje v některých případech licenční poplatek Číselná identifikace TREND-FV01010379-2022-1a Jazyk dok. cze - čeština Země vlastníka CZ - Česká republika Klíč. slova apodized phase mask ; diffraction grating ; electron-beam lithography Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery Obor OECD Optics (including laser optics and quantum optics) CEP FW01010379 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 Anotace Nelineární fázová maska byla navržena tak, aby minimalizovala účinnost nežádoucích difrakčních řádů a maximalizovala účinnost 1. difrakčního řádu. Vzorek byl připraven pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání. Tyto dvě technologie zaručují dosažení požadovaných parametrů masky pro následnou výrobu vláknových filtrů s nelineární spektrální charakteristikou. Překlad anotace Apodized phase mask was designed to minimize the efficiency of undesirable diffraction orders and also to maximize the efficiency of the 1. diffraction order. The sample was fabricated by the use of e-beam lithography and reactive ion etching. These technologies guarantee achieving designed parameters of the mask for upcoming manufacture of fiber bragg grating filters with apodized spectrum. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2023
Počet záznamů: 1