Počet záznamů: 1  

Depth profile of acceptor concentration in InGaN/GaN multiple quantum wells

  1. 1.
    SYSNO ASEP0542725
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevDepth profile of acceptor concentration in InGaN/GaN multiple quantum wells
    Tvůrce(i) Hájek, František (FZU-D) ORCID
    Hospodková, Alice (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Hubáček, Tomáš (FZU-D) ORCID
    Oswald, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Pangrác, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Dominec, Filip (FZU-D) RID, ORCID
    Horešovský, Robert (FZU-D)
    Kuldová, Karla (FZU-D) RID, ORCID
    Celkový počet autorů8
    Číslo článku118127
    Zdroj.dok.Journal of Luminescence. - : Elsevier - ISSN 0022-2313
    Roč. 236, Aug (2021)
    Poč.str.5 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.NL - Nizozemsko
    Klíč. slovanitrides ; impurity ; SIMS ; InGaN/GaN
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    CEPEF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    FW03010298 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    Způsob publikováníOpen access s časovým embargem (31.08.2023)
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000663095100002
    EID SCOPUS85104287517
    DOI10.1016/j.jlumin.2021.118127
    AnotaceZn contamination of InGaN/GaN multiple quantum well (MQW) structure from unknown source is found. A model describing concentration profile of Zn acceptor impurity in InGaN/GaN MQW structure is introduced and compared to measured values. The model is based on difference among the formation energies of acceptors in the InGaN quantum wells. A nice correlation of the model and experimental data helps to reveal origin of Zn impurity in InGaN quantum wells. Proposed methodology can be applied to different acceptor-like defects and shine light the upon enigma of high defect concentration in the bottom quantum wells grown atop the n-type buffer layer.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2022
    Elektronická adresahttp://hdl.handle.net/11104/0320090
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.