Počet záznamů: 1
Atomic layer deposited films of Al2O3 on fluorine-doped tin oxide electrodes: stability and barrier properties
- 1.
SYSNO 0539267 Název Atomic layer deposited films of Al2O3 on fluorine-doped tin oxide electrodes: stability and barrier properties Tvůrce(i) Krýsová, Hana (UFCH-W) RID, ORCID
Neumann-Spallart, M. (CZ)
Tarábková, Hana (UFCH-W) RID, ORCID
Janda, Pavel (UFCH-W) RID, ORCID
Kavan, Ladislav (UFCH-W) RID, ORCID
Krýsa, J. (CZ)Korespondující/senior Krýsa, J. - Korespondující autor Zdroj.dok. Beilstein Journal of Nanotechnology. Roč. 12, JAN 2021 (2021), s. 24-34. - : Beilstein - Institut zur Foerderung der Chemischen Wissenschaften Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant GA20-11635S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika LM2018124 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika Institucionální podpora UFCH-W - RVO:61388955 Jazyk dok. eng Země vyd. DE Klíč.slova Al2O3 * atomic layer deposition * corrosion URL http://hdl.handle.net/11104/0316945 Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0316945 Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0539267.pdf 4 5.5 MB open access Vydavatelský postprint povolen
Počet záznamů: 1