Počet záznamů: 1
Atomic layer deposited films of Al2O3 on fluorine-doped tin oxide electrodes: stability and barrier properties
SYS 0539267 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103225353.2 014 $a 85099882753 $2 SCOPUS 014 $a 000618558200001 $2 WOS 017 $a 10.3762/bjnano.12.2 $2 DOI 100 $a 20210205d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a DE 200 1-
$a Atomic layer deposited films of Al2O3 on fluorine-doped tin oxide electrodes: stability and barrier properties 215 $a 11 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0378092 $1 011 $a 2190-4286 $e 2190-4286 $1 200 1 $a Beilstein Journal of Nanotechnology $v Roč. 12, JAN 2021 (2021), s. 24-34 $1 210 $c Beilstein - Institut zur Foerderung der Chemischen Wissenschaften 610 $a Al2O3 610 $a atomic layer deposition 610 $a corrosion 700 -1
$3 cav_un_auth*0102849 $a Krýsová $b Hana $p UFCH-W $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $w Electrochemical Materials $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0371668 $a Neumann-Spallart $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0261282 $a Tarábková $b Hana $p UFCH-W $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $w Electrochemical Materials $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102810 $a Janda $b Pavel $p UFCH-W $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $w Electrochemical Materials $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102829 $a Kavan $b Ladislav $p UFCH-W $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $w Electrochemical Materials $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0015740 $a Krýsa $b J. $y CZ $4 070 $z K 856 $u http://hdl.handle.net/11104/0316945 $9 RIV
Počet záznamů: 1