Počet záznamů: 1  

Advances in chemical lift-off lithography

    1.
    SYSNO ASEP0535135
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVZáznam nebyl označen do RIV
    Zařazení RIVNení vybrán druh dokumentu
    NázevAdvances in chemical lift-off lithography
    Tvůrce(i) Cheung, K. (US)
    Goronzy, D. P. (US)
    Stemer, D. (US)
    Zhao, CH. (US)
    Young, T. (US)
    Belling, J. (US)
    Baše, Tomáš (UACH-T) RID, SAI, ORCID
    Andrews, A. (US)
    Weiss, P. (US)
    Celkový počet autorů9
    Číslo článku277-ANYL
    Zdroj.dok.Abstracts of papers - American Chemical Society - ISSN 0065-7727
    Roč. 258, AUG (2019)
    Poč.str.1 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    AkceACS Fall National Meeting and Exposition
    Datum konání25.08.2019 - 29.08.2019
    Místo konáníSan Diego
    ZeměUS - Spojené státy americké
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovalift-off lithography
    Vědní obor RIVCA - Anorganická chemie
    Obor OECDInorganic and nuclear chemistry
    Institucionální podporaUACH-T - RVO:61388980
    UT WOS000525055501201
    PracovištěÚstav anorganické chemie
    KontaktJana Kroneislová, krone@iic.cas.cz, Tel.: 311 236 931
    Rok sběru2021
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.

Přijmout všeNastaveníOdmítnout vše