Počet záznamů: 1  

Photoluminescence excitation of rare earth doped fluoride films by surface plasmon resonance in the Kretschman configuration

  1. 1.
    SYSNO ASEP0455065
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVNení vybrán druh dokumentu
    NázevPhotoluminescence excitation of rare earth doped fluoride films by surface plasmon resonance in the Kretschman configuration
    Tvůrce(i) Bulíř, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zikmund, Tomáš (FZU-D)
    Novotný, Michal (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCID
    Juha, Libor (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok.COLA 2015. International Conference on Laser Ablation 2015. Program handbook. - Canberra : Australian National University, 2015 / Rode A. - ISBN 978 0 64694 286 5
    O 21
    Poč.str.1 s.
    Forma vydáníOnline - E
    AkceCOLA 2015. International Conference on Laser Ablation 2015
    Datum konání31.08.2015-04.09.2015
    Místo konáníCairns
    ZeměAU - Austrálie
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.AU - Austrálie
    Klíč. slovaphotoluminescence ; rare earth ; fluoride ; surface plasmon resonance ; aluminium
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPGAP108/11/1312 GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceWe report on excitation of the photoluminescence of rare earth doped fluoride by means of the surface plasmon resonance of Al layer. The advantage of this method is high efficiency of the excitation, which is applicable to ultra-thin films. The p-polarized UV diode laser light is coupled to surface plasmon resonance using a fused silica prism in a Kretschman configuration. The angular dependence of reflected intensity is measured using a theta-2theta goniometer. The surface plasmon at resonance condition induces the luminescence in the adjacent doped fluoride layer. The luminescence is collected using a fiber optics and detected by a spectrophotometer. For the experiment, we used pure LiF films and doped by Eu, Pr and Yb. The fluoride layer was deposited on Al-coated fused silica substrate by electron beam evaporation. For the experiment, we prepared several samples with thickness up-to 20 nm.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2016
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.