Počet záznamů: 1
Nanoparticles embedded in hydrogenated amorphous silicon thin layers
- 1.
SYSNO ASEP 0452934 Druh ASEP A - Abstrakt Zařazení RIV Záznam nebyl označen do RIV Zařazení RIV Není vybrán druh dokumentu Název Nanoparticles embedded in hydrogenated amorphous silicon thin layers Tvůrce(i) Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
Stuchlík, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Stuchlíková, The-Ha (FZU-D) RID, ORCID
Purkrt, Adam (FZU-D) RID
Fajgar, Radek (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Dřínek, Vladislav (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Zhuravlev, K. (RU)
Galkin, N.G. (RU)Zdroj.dok. International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors /26./ (ICANS26). Abstracts and Program. - Aachen : ICANS26, 2015 / Carius R.
S. 196-197Poč.str. 2 s. Forma vydání Tištěná - P Akce International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors /26./ (ICANS26) Datum konání 13.09.2015-18.09.2015 Místo konání Aachen Země DE - Německo Typ akce EUR Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. DE - Německo Klíč. slova a-Si:H ; LED ; RLA ; RDE Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP GA14-05053S GA ČR - Grantová agentura ČR LD14011 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LH12236 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 ; UCHP-M - RVO:67985858 Anotace Nanoparticles (NPs) embedded in the hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin layer modify its optoelectronic properties making this new nanocomposite material suitable for low cost, large area applications such as light emitting diodes (LED). The a-Si:H layer was grown on glass substrates at 250°C at the Institute of Physics in Prague by the radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (CVD). The deposition of PbS and CdS nanoparticles on a-Si:H surface was achieved ex-situ at the Rzhanov Institute of Semiconductor Physics in Novosibirsk using Langmuir-Blodgett technique. The Reactive Deposition Epitaxy (RDE) in the ultra high vacuum (UHV) chamber was used ex-situ at Institute of Automation and Control Processes in Vladivostok to deposit metal (Mg, Ca, Cr) silicide nanoparticles. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2016
Počet záznamů: 1