Počet záznamů: 1
Hybridní plazmová tryska s povrchovou vlnou pro buzení vysoce reaktivních výbojů
- 1.
SYSNO ASEP 0448124 Druh ASEP P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor Zařazení RIV F - Výsledky s právní ochranou (užitný vzor, průmyslový vzor) Poddruh RIV Užitný vzor Název Hybridní plazmová tryska s povrchovou vlnou pro buzení vysoce reaktivních výbojů Překlad názvu Hybrid plasma nozzle with surface wave for exciting extremely reactive discharges Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
Šmíd, Jiří (FZU-D)
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAIRok vydání 2015 Vlastník vzoru Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i Sídlo Praha 8, Na Slovance 2 Datum udělení vzoru 14.07.2015 Číslo vzoru 28463 Lic. popl. A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Využití A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem Využití jiným subjektem A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Kód vydavatele patentu CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague Jazyk dok. cze - čeština Klíč. slova sufatron ; plasma technology ; discharge plasma Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) CEP LH12045 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy TA03010743 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Anotace Technické řešení spadá do oblasti generace nízkoteplotních plazmových výbojů za účelem jejich následného využití v technologických aplikacích. Jedná se zejména o depozice funkčních tenkých vrstev s využitím plazma chemických reakcí v aktivní zóně generovaného výboje. Oblast řešení je zaměřena na konstrukci plazmové trysky využívající pro buzení plazmatu povrchovou vlnu, která umožňuje generování výbojů s velkou koncentrací reaktivních plynů, např. O2, N2, H2, C2H2, CH4 a dalších, a to v širokém rozsahu tlaků. Překlad anotace Technical solutions belong to area of generation of low-temperature plasma discharges for technological application. It is namely thin film deposition using plasma-chemical reaction in active area of generated discharge. Solution is focused on construction of plasma nozzle using surface wave for plasma excitation that enables generation of discharges with high concentration of reactive gases like O2, N2, H2, C2H2, CH4 and others in a wide range of pressure. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2016 Elektronická adresa https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0028/uv028463.pdf
Počet záznamů: 1