Počet záznamů: 1  

GaAsSb strain reducing layer covering InAs/GaAs quantum dots

  1. 1.
    SYSNO ASEP0399637
    Druh ASEPK - Konferenční příspěvek (lokální konf.)
    Zařazení RIVZáznam nebyl označen do RIV
    NázevGaAsSb strain reducing layer covering InAs/GaAs quantum dots
    Tvůrce(i) Zíková, Markéta (FZU-D) RID
    Hospodková, Alice (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Pangrác, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Oswald, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Kubištová, Jana (FZU-D) RID
    Hulicius, Eduard (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Komninou, Ph. (GR)
    Kioseoglou, J. (GR)
    Nikitis, F. (GR)
    Celkový počet autorů9
    Zdroj.dok.Studentská vědecká konference fyziky pevných látek /3./. - Praha : Česká technika - nakladatelství ČVUT, 2013 / Aubrecht J. ; Kalvoda L. ; Kučeráková M. ; Štěpánková A. - ISBN 978-80-01-05344-7
    S. 46-50
    Poč.str.5 s.
    AkceStudentská vědecká konference fyziky pevných látek /3./
    Datum konání28.06.2013-02.07.2013
    Místo konáníKrkonoše
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceCST
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovaquantum dot ; strain reducing layer ; InAs ; GaAsSb
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPGA13-15286S GA ČR - Grantová agentura ČR
    7AMB12GR034 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    LM2011026 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceGaAsSb is often used as a capping material for InAs quantum dots (QDs) due to its suitable conduction band alignment and suppression of In segregation from QDs during the capping process.We have found out that during the GaAsSb layer growth, Sb atoms segregate above InAs QDs, which is proved by the AFM and HRTEM measurements. For higher amount of Sb in GaAsSb, the measured photoluminescence (PL) has longer wavelength, but if it is too high, the structure may become type II with decreased PL intensity. For thick GaAsSb layer, the PL intensity decreases, because only big QDs participate to the PL.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2014
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.