Počet záznamů: 1
Shaped E-beam nanopatterning with proximity effect correction
- 1.
SYSNO 0390977 Název Shaped E-beam nanopatterning with proximity effect correction Tvůrce(i) Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, František (UPT-D) RID, SAI
Bok, Jan (UPT-D) RID
Mikšík, P. (CZ)
Vašina, J. (CZ)Zdroj.dok. NANOCON 2012, 4th International Conference Proceedings. S. 717-722. - Ostrava : TANGER Ltd, 2012 Konference NANOCON 2012. International Conference /4./, Brno, 23.10.2012-25.10.2012 Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) Grant FR-TI1/576 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy TE01020233 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 Jazyk dok. eng Země vyd. CZ Klíč.slova e-beam writer * shaped beam * proximity effect correction Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0219844
Počet záznamů: 1