Počet záznamů: 1
Shaped E-beam nanopatterning with proximity effect correction
- 1.
SYSNO ASEP 0390977 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Shaped E-beam nanopatterning with proximity effect correction Tvůrce(i) Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, František (UPT-D) RID, SAI
Bok, Jan (UPT-D) RID
Mikšík, P. (CZ)
Vašina, J. (CZ)Celkový počet autorů 7 Zdroj.dok. NANOCON 2012, 4th International Conference Proceedings. - Ostrava : TANGER Ltd, 2012 - ISBN 978-80-87294-32-1 Rozsah stran s. 717-722 Poč.str. 6 s. Forma vydání Tištěná - P Akce NANOCON 2012. International Conference /4./ Datum konání 23.10.2012-25.10.2012 Místo konání Brno Země CZ - Česká republika Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova e-beam writer ; shaped beam ; proximity effect correction Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika CEP FR-TI1/576 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy TE01020233 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 Anotace Electron beam writer is a tool for writing patterns into a sensitive material (resist) in a high resolution. During the patterning, areas adjacent to the beam incidence point are exposed due to electron scattering effects in solid state (resist and the substrate). Consequently, this phenomenon, also called proximity effect, causes that the exposed pattern can be broader in comparison to the designed. In this contribution we present a software for proximity effect simulation and a software for proximity effect correction (PEC). The software is based on the model using the density of absorbed energy in resist layer and the model of resist development process. A simulation of proximity effect was carried out on binary lithography patterns, and consequently testing patterns were exposed with a corrected dose. As pattern generation, we used the e-beam writer TESLA BS 600 working with fixed energy 15keV and variable size rectangular shaped beam. The simulations of binary testing patterns and exposed patterns without PEC were compared. Finally, we compared the testing structures with PEC and without PEC, and we showed that the PEC tool works reliably for the e-beam writer BS 600. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2013
Počet záznamů: 1