Počet záznamů: 1
Improved amorphous/crystalline silicon interface passivation by hydrogen plasma treatment
SYS 0375018 LBL 02355^^^^^2200409^^^450 005 20240103200655.6 014 $a 000295853500075 $2 WOS 017 70
$a 10.1063/1.3641899 $2 DOI 100 $a 20120222d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a US 200 1-
$a Improved amorphous/crystalline silicon interface passivation by hydrogen plasma treatment 215 $a 3 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256166 $1 011 $a 0003-6951 $e 1077-3118 $1 200 1 $a Applied Physics Letters $v Roč. 99, č. 12 (2011), 123506/1-123506/3 $1 210 $c AIP Publishing 610 0-
$a hererojunction 610 0-
$a solar cells 610 0-
$a hydrogen plasma 700 -1
$3 cav_un_auth*0280006 $a Descoeudres $b A. $y CH $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0280007 $a Barraud $b L. $y CH $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0280008 $a De Wolf $b S. $y CH $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0280009 $a Strahm $b B. $y CH $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0280010 $a Lachenal $b D. $y CH $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0280011 $a Guérin $b C. $y CH $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0280012 $a Holman $b Z.C. $y CH $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0280013 $a Zicarelli $b F. $y CH $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0280014 $a Demaurex $b B. $y CH $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0280015 $a Seif $b J. $y CH $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0225122 $a Holovský $b Jakub $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0280016 $a Ballif $b C. $y CH $4 070 856 $u http://apl.aip.org/resource/1/applab/v99/i12/p123506_s1
Počet záznamů: 1