Počet záznamů: 1  

One-step 3D microstructuring of PMMA using MeV light ions

  1. 1.
    SYSNO ASEP0565861
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevOne-step 3D microstructuring of PMMA using MeV light ions
    Tvůrce(i) Romanenko, Oleksandr V. (UJF-V) ORCID, SAI
    Jagerová, Adéla (UJF-V) ORCID, SAI
    Borodkin, Andrei (URE-Y)
    Havránek, Vladimír (UJF-V) RID, SAI, ORCID
    Macková, Anna (UJF-V) RID, ORCID, SAI
    Celkový počet autorů5
    Číslo článku02001
    Zdroj.dok.EPJ Web of Conferences, 261. - Les ulis : EDP sciences, 2022
    Poč.str.6 s.
    Forma vydáníOnline - E
    AkceApplied Nuclear Physics Conference (ANPC 2021)
    Datum konání12.09.2021 - 17.09.2021
    Místo konáníPrague
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.FR - Francie
    Klíč. slovaPMA ; 3D microstructures ; ion beam lithography
    Obor OECDNuclear physics
    CEPGA19-02482S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Výzkumná infrastrukturaCANAM II - 90056 - Ústav jaderné fyziky AV ČR, v. v. i.
    Institucionální podporaUJF-V - RVO:61389005 ; URE-Y - RVO:67985882
    DOI10.1051/epjconf/202226102001
    AnotaceThe conventional procedure for creating 3D microstructures in resists by ion beam lithography consists of two stages – exposure and developing. However, single stage of manufacturing 3D structures in resist is also possible. Irradiation of PMMA can cause it to shrink. This feature of the polymer can be used for one-step three-dimensional microstructuring, which simplifies the manufacturing process. The shrinkage of PMMA film on a substrate has been extensively studied, while research on free-standing film is not comprehensive. The use of free-standing PMMA film allows the creation of a flexible material with 3D microstructures, which can be used in medicine, optics, and electronics. The question here is whether the results obtained for the PMMA film on the substrate are applicable to the freestanding film. Since the nature of shrinking is outgassing of volatile products, the film on the substrate has only one surface for the release of gases, while in the free-standing film, gases can be released from the sample from both sides. Therefore, the shrinking in the free-standing film occurs on both sides. The aim of this work is to study the shrinkage of the free-standing film and compare it with that of the film of the same thickness coated on the substrate.
    PracovištěÚstav jaderné fyziky
    KontaktMarkéta Sommerová, sommerova@ujf.cas.cz, Tel.: 266 173 228
    Rok sběru2023
    Elektronická adresahttps://doi.org/10.1051/epjconf/202226102001
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.