Počet záznamů: 1  

Oxidation of amorphous HfNbTaTiZr high entropy alloy thin films prepared by DC magnetron sputtering

  1. 1.
    SYSNO ASEP0542816
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevOxidation of amorphous HfNbTaTiZr high entropy alloy thin films prepared by DC magnetron sputtering
    Tvůrce(i) Hruška, Petr (FZU-D) ORCID
    Lukáč, František (UFP-V) ORCID
    Cichoň, Stanislav (FZU-D) RID, ORCID
    Vondráček, Martin (FZU-D) RID, ORCID
    Čížek, J. (CZ)
    Fekete, Ladislav (FZU-D) RID, ORCID
    Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCID
    Veselý, J. (CZ)
    Minárik, P. (CZ)
    Cieslar, M. (CZ)
    Melikhova, O. (CZ)
    Kmječ, T. (CZ)
    Liedke, M.O. (DE)
    Butterling, M. (DE)
    Wagner, A. (DE)
    Celkový počet autorů15
    Číslo článku157978
    Zdroj.dok.Journal of Alloys and Compounds. - : Elsevier - ISSN 0925-8388
    Roč. 869, July (2021)
    Poč.str.9 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.NL - Nizozemsko
    Klíč. slovahigh entropy alloys ; HfNbTaTiZr ; magnetron sputtering ; x-ray photoelectron spectroscopy ; positron annihilation spectroscopy
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    Vědní obor RIV – spolupráceÚstav fyziky plazmatu - Hutnictví, kovové materiály
    CEPGA17-17016S GA ČR - Grantová agentura ČR
    EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Způsob publikováníOmezený přístup
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271 ; UFP-V - RVO:61389021
    UT WOS000638274800001
    EID SCOPUS85096833011
    DOI10.1016/j.jallcom.2020.157978
    AnotaceHigh entropy alloys represent a new type of materials with a unique combination of physical properties originating from the occurrence of single-phase solid solutions of numerous elements. The preparation of nanostructured or amorphous structure in a form of thin films promises increased effective surface and high intergranular diffusion of elements as well as a high affinity to oxidation. In this work, we studied HfNbTaTiZr thin films, deposited at room temperature by DC magnetron sputtering from a single bcc phase target. Films exhibit cellular structure (~100 nm) with fine substructure (~10 nm) made of roundshape amorphous clusters. The composition is close to equimolar with slight Ti enrichment and without any mutual segregation of elements.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2022
    Elektronická adresahttps://doi.org/10.1016/j.jallcom.2020.157978
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.