Periodic surface functional group density on graphene via laser-induced substrate patterning at Si/SiO(2)interface

Drogowska-Horna, Karolina A.; Mirza, M. Inam; Rodriguez, Álvaro; Kovaříček, Petr; Sládek, Juraj; Derrien, Thibault; Gedvilas, M.; Raciukaitis, G.; Frank, Otakar; Bulgakova, Nadezhda M.; Kalbáč, Martin

doi:https://dx.doi.org/10.1007/s12274-020-2852-3

Počet záznamů: 1

Periodic surface functional group density on graphene via laser-induced substrate patterning at Si/SiO(2)interface

1.

SYSNO	0531783
Název	Periodic surface functional group density on graphene via laser-induced substrate patterning at Si/SiO(2)interface
Tvůrce(i)	Drogowska-Horna, Karolina A. (UFCH-W) Mirza, M. Inam (FZU-D)_ORCID Rodriguez, Álvaro (UFCH-W) Kovaříček, Petr (UFCH-W)_{ORCID, RID} Sládek, Juraj (FZU-D)_ORCID Derrien, Thibault (FZU-D)_ORCID Gedvilas, M. (LT) Raciukaitis, G. (LT) Frank, Otakar (UFCH-W)_{RID, ORCID} Bulgakova, Nadezhda M. (FZU-D)_ORCID Kalbáč, Martin (UFCH-W)_{RID, ORCID}
Korespondující/senior	Kovaříček, Petr - Korespondující autor Kalbáč, Martin - Korespondující autor
Zdroj.dok.	Nano Research. Roč. 13, č. 9 (2020), s. 2332-2339. - : Tsinghua University Press
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	GJ18-09055Y GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
	GX20-08633X GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
	CZ.02.1.01/0.0/0.0/15_003/0000445, XE - země EU
	CZ.02.1.01/0.0/0.0/15_006/0000674, XE - země EU
	LO1602 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_026/0008382, CZ - Česká republika
	LM2015073 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
	CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_013/0001821, CZ - Česká republika
	EF15_003/0000445 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	EF15_006/0000674 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	EF16_013/0001821 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
	EF16_026/0008382 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Institucionální podpora	UFCH-W - RVO:61388955 ; FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	CN
Klíč.slova	covalent functionalization * raman-spectroscopy * layer graphene * chemistry * defects * substituent * reactivity * deposition * films * 2D materials * graphene functionalization * lipss * periodic patterns * Raman spectroscopy * atomic force microscopy (AFM)
URL	http://hdl.handle.net/11104/0310400
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0310400

	Název souboru	Staženo	Velikost	Komentář	Verze	Přístup
	0531783.pdf	6	2.4 MB		Vydavatelský postprint	vyžádat

Počet záznamů: 1