Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0494364
Název	Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering
Tvůrce(i)	Horáček, Miroslav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Knápek, Alexandr (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Matějka, Milan (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Krátký, Stanislav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Urbánek, M. (CZ) Mika, Filip (UPT-D)_{RID, SAI, ORCID} Kolařík, Vladimír (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI}
Korespondující/senior	Kolařík, Vladimír - Korespondující autor
Zdroj.dok.	Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Proceedings of the 16th International Seminar. S. 36-37. - Brno : Institute of Scientific Instruments The Czech Academy of Sciences, 2018
Konference	Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation, 04.06.2018 - 08.06.2018, Skalský dvůr
Druh dok.	Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Grant	TE01020233 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
	TG03010046 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
	LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
	ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Institucionální podpora	UPT-D - RVO:68081731
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	CZ
Klíč.slova	phyllotaxis * electron beam lithography
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0287595

Počet záznamů: 1