Počet záznamů: 1  

Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering

  1. 1.
    SYSNO ASEP0494364
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevHiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering
    Tvůrce(i) Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Knápek, Alexandr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Urbánek, M. (CZ)
    Mika, Filip (UPT-D) RID, SAI, ORCID
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Celkový počet autorů7
    Zdroj.dok.Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Proceedings of the 16th International Seminar. - Brno : Institute of Scientific Instruments The Czech Academy of Sciences, 2018 - ISBN 978-80-87441-23-7
    Rozsah strans. 36-37
    Poč.str.2 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    AkceRecent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation
    Datum konání04.06.2018 - 08.06.2018
    Místo konáníSkalský dvůr
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovaphyllotaxis ; electron beam lithography
    Vědní obor RIVJA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECDOptics (including laser optics and quantum optics)
    CEPTE01020233 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    TG03010046 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Institucionální podporaUPT-D - RVO:68081731
    UT WOS000450591400012
    AnotaceThe high stability and good current homogeneity in the spot of the e-beam writer is crucial to
    the exposure quality, particularly in the case of large-area structures when gray-scale
    lithography is used. Even though the deflection field distortion is calibrated regularly and
    beam focus and beam astigmatism is dynamically corrected over the entire deflection field, we can observe disturbances in the exposed relief.
    Recently, we presented a method that makes use of e–beam exposure imperfection by
    introducing marginally visible high–frequency diffraction gratings of variable pitch that fill in
    separate orthogonal exposure fields. The actually presented approach follows up our
    research on aperiodic arrangements of optical primitives, especially on the phyllotactic–
    like arrangement of sub–micron relief optical elements. This approach is extended from the
    diffraction element arrangement to the higher level of exposure fields arrangements.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2019
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.