Počet záznamů: 1
Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering
- 1.
SYSNO ASEP 0494364 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering Tvůrce(i) Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Knápek, Alexandr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Urbánek, M. (CZ)
Mika, Filip (UPT-D) RID, SAI, ORCID
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAICelkový počet autorů 7 Zdroj.dok. Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Proceedings of the 16th International Seminar. - Brno : Institute of Scientific Instruments The Czech Academy of Sciences, 2018 - ISBN 978-80-87441-23-7 Rozsah stran s. 36-37 Poč.str. 2 s. Forma vydání Tištěná - P Akce Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation Datum konání 04.06.2018 - 08.06.2018 Místo konání Skalský dvůr Země CZ - Česká republika Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova phyllotaxis ; electron beam lithography Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika Obor OECD Optics (including laser optics and quantum optics) CEP TE01020233 GA TA ČR - Technologická agentura ČR TG03010046 GA TA ČR - Technologická agentura ČR LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 UT WOS 000450591400012 Anotace The high stability and good current homogeneity in the spot of the e-beam writer is crucial to
the exposure quality, particularly in the case of large-area structures when gray-scale
lithography is used. Even though the deflection field distortion is calibrated regularly and
beam focus and beam astigmatism is dynamically corrected over the entire deflection field, we can observe disturbances in the exposed relief.
Recently, we presented a method that makes use of e–beam exposure imperfection by
introducing marginally visible high–frequency diffraction gratings of variable pitch that fill in
separate orthogonal exposure fields. The actually presented approach follows up our
research on aperiodic arrangements of optical primitives, especially on the phyllotactic–
like arrangement of sub–micron relief optical elements. This approach is extended from the
diffraction element arrangement to the higher level of exposure fields arrangements.Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2019
Počet záznamů: 1