Počet záznamů: 1
Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering
SYS 0494364 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103220622.4 014 $a 000450591400012 $2 WOS 017 $2 DOI 100 $a 20181011d m y slo 03 ba 101 $a eng $d eng 102 $a CZ 200 1-
$a Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering 215 $a 2 s. $c P 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0494358 $1 010 $a 978-80-87441-23-7 $1 200 1 $a Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Proceedings of the 16th International Seminar $v S. 36-37 $1 210 $a Brno $c Institute of Scientific Instruments The Czech Academy of Sciences $d 2018 610 $a phyllotaxis 610 $a electron beam lithography 700 -1
$3 cav_un_auth*0101553 $a Horáček $b Miroslav $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0299810 $a Knápek $b Alexandr $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $w New Technologies $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0258195 $a Matějka $b Milan $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0287343 $a Krátký $b Stanislav $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0290293 $a Urbánek $b M. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0101596 $a Mika $b Filip $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $w Electron Microscopy $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101578 $a Kolařík $b Vladimír $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $z K $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1