Role of heat accumulation in the multi-shot damage of silicon irradiated with femtosecond XUV pulses at a 1 MHz repetition rate

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0466618
Název	Role of heat accumulation in the multi-shot damage of silicon irradiated with femtosecond XUV pulses at a 1 MHz repetition rate
Tvůrce(i)	Sobierajski, R. (PL) Jacyna, I. (PL) Dlužewski, P. (PL) Klepka, M.T. (PL) Klinger, D. (PL) Pelka, J. B. (PL) Burian, Tomáš (FZU-D)_{RID, ORCID} Hájková, Věra (FZU-D)_{RID, ORCID} Juha, Libor (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Saksl, K. (SK) Vozda, Vojtěch (FZU-D)_ORCID Makhotkin, I. (NL) Louis, E. (NL) Faatz, B. (DE) Tiedtke, K. (DE) Toleikis, S. (DE) Enkisch, H. (DE) Hermann, M. (DE) Strobel, S. (DE) Loch, R.A. (DE) Chalupský, Jaromír (FZU-D)_{RID, ORCID}
Zdroj.dok.	Optics Express. Roč. 24, č. 14 (2016), s. 15468-15477. - : Optical Society of America
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	LH14072 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
	GA14-29772S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	US
Klíč.slova	free-electron lasers * damage * x-rays * soft x-rays * extreme ultraviolet (EUV) * semiconductor materials * materials processing
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0264888

Počet záznamů: 1