(100) substrate processing optimization for fabrication of smooth boron doped epitaxial diamond layer by PE CVD

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0464790
Název	(100) substrate processing optimization for fabrication of smooth boron doped epitaxial diamond layer by PE CVD
Tvůrce(i)	Mortet, Vincent (FZU-D)_{RID, ORCID} Fekete, Ladislav (FZU-D)_{RID, ORCID} Ashcheulov, Petr (FZU-D)_{ORCID, RID} Taylor, Andrew (FZU-D)_{RID, ORCID} Hubík, Pavel (FZU-D)_{RID, ORCID} Trémouilles, D. (FR) Bedel-Pereira, E. (FR)
Zdroj.dok.	NANOCON 2014. 6th International conference proceedings. S. 115-119. - Ostrava : TANGER, 2015
Konference	International Conference NANOCON /6./, 05.11.2014-07.11.2014, Brno
Druh dok.	Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Grant	GA13-31783S GA ČR - Grantová agentura ČR
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	CZ
Klíč.slova	doping * PE CVD * diamond * surface treatment * thin film
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0263568

Počet záznamů: 1