Počet záznamů: 1  

Effect of plasma composition on nanocrystalline diamond layers deposited by a microwave linear antenna plasma-enhanced chemical vapour deposition system

  1. 1.
    SYSNO ASEP0454568
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevEffect of plasma composition on nanocrystalline diamond layers deposited by a microwave linear antenna plasma-enhanced chemical vapour deposition system
    Tvůrce(i) Taylor, Andrew (FZU-D) RID, ORCID
    Ashcheulov, Petr (FZU-D) ORCID, RID
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Fekete, Ladislav (FZU-D) RID, ORCID
    Hubík, Pavel (FZU-D) RID, ORCID
    Klimša, Ladislav (FZU-D) ORCID
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
    Jirka, Ivan (UFCH-W) RID, ORCID
    Janíček, P. (CZ)
    Bedel-Pereira, E. (FR)
    Kopeček, Jaromír (FZU-D) RID, ORCID
    Mistrík, J. (CZ)
    Mortet, Vincent (FZU-D) RID, ORCID
    Zdroj.dok.Physica Status Solidi A : Applications and Materials Science. - : Wiley - ISSN 1862-6300
    Roč. 212, č. 11 (2015), s. 2418-2423
    Poč.str.6
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.DE - Německo
    Klíč. slovadiamond ; electrical conductivity ; nanocrystalline materials ; optical emission spectroscopy ; plasma enhanced chemical vapour deposition ; SiC
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPGA13-31783S GA ČR - Grantová agentura ČR
    LO1409 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271 ; UFCH-W - RVO:61388955
    UT WOS000366588100006
    EID SCOPUS84934342494
    DOI10.1002/pssa.201532183
    AnotaceThe addition of CO2 into the process gas has a significant impact on the quality and the incorporation of boron in CVD diamond layers. In this report we study the effect of CO2 addition in the gas phase on the properties of boron doped nano-crystalline diamond (BNCD) layers grown at low substrate temperatures (450–500 °C) using a microwave linear antenna plasma-enhanced chemical vapour deposition apparatus (MW-LA-PECVD). Experimental results show an increase in the layers' conductivity with a reduction in CO2 concentration, which is consistent with the variation in the atomic boron emission line intensity measured by optical emission spectroscopy (OES). At CO2 concentrations close to zero, we observed the formation of a smooth, transparent and highly resistive layer on unseeded substrates.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2016
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.