Počet záznamů: 1
Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber
- 1.
SYSNO 0449004 Název Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber Tvůrce(i) Pokorný, Petr (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Musil, Jindřich (FZU-D) RID, ORCID
Fitl, Přemysl (FZU-D) RID, ORCID
Novotný, Michal (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCID
Bulíř, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Plasma Processes and Polymers. Roč. 12, č. 5 (2015), s. 416-421. - : Wiley Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant GAP108/11/1298 GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika GAP108/11/1312 GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika GAP108/11/0958 GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika GA14-10279S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Země vyd. DE Klíč.slova contamination * low-pressure discharges * magnetron * metallic films * sputtering Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0250593
Počet záznamů: 1