Počet záznamů: 1
Deposition of Ba.sub.x./sub.Sr.sub.1-x./sub.TiO.sub.3./sub. thin films by double RF hollow cathode plasma jet system
- 1.
SYSNO ASEP 0324115 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Deposition of BaxSr1-xTiO3 thin films by double RF hollow cathode plasma jet system Překlad názvu Depozice tenkých vrstev BaxSr1-xTiO3 pomocí dvoutryskového RF plazmatického systému s efektem duté katody Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Virostko, Petr (FZU-D)
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Deyneka, Alexander (FZU-D)
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Valvoda, V. (CZ)
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
Šícha, Miloš (FZU-D)
Tichý, M. (CZ)Zdroj.dok. International conference on phenomena in ionized gases- ICPIG /28./. - Praha : Institute of Plasma Physics AS CR, 2007 / Schmidt J. ; Šimek M. ; Pekárek S. ; Prukner V. - ISBN 978-80-87026-01-4 Rozsah stran s. 765-768 Poč.str. 4 s. Akce International conference on phenomena in ionized gases - ICPIG /28./ Datum konání 15.07.2007-20.07.2007 Místo konání Praha Země CZ - Česká republika Typ akce EUR Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova BSTO ; thin films ; plasma deposition ; hollow cathode ; plasma jet Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd 1QS100100563 GA AV ČR - Akademie věd 1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Anotace Low-pressure plasma jet system with two hollow cathodes was used for deposition of BaxSr1-xTiO3 (BSTO) ferroelectric thin films. High density pulse modulated RF hollow cathode discharge was generated in ceramic nozzles made of SrTiO3 and BaTiO3. In the experiment, the composition of BSTO films was controlled by magnitude of average RF power applied on particular plasma jet guns. X-ray diffraction proved that BSTO thin films were polycrystalline with perovskite structure. Time resolved Langmuir probe system and plasma impedance monitor were used for ´in situ´ plasma diagnostics and control of deposition conditions. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2009
Počet záznamů: 1