Počet záznamů: 1  

Deposition of Ba.sub.x./sub.Sr.sub.1-x./sub.TiO.sub.3./sub. thin films by double RF hollow cathode plasma jet system

  1. 1.
    SYSNO ASEP0324115
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevDeposition of BaxSr1-xTiO3 thin films by double RF hollow cathode plasma jet system
    Překlad názvuDepozice tenkých vrstev BaxSr1-xTiO3 pomocí dvoutryskového RF plazmatického systému s efektem duté katody
    Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Virostko, Petr (FZU-D)
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Deyneka, Alexander (FZU-D)
    Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
    Valvoda, V. (CZ)
    Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
    Šícha, Miloš (FZU-D)
    Tichý, M. (CZ)
    Zdroj.dok.International conference on phenomena in ionized gases- ICPIG /28./. - Praha : Institute of Plasma Physics AS CR, 2007 / Schmidt J. ; Šimek M. ; Pekárek S. ; Prukner V. - ISBN 978-80-87026-01-4
    Rozsah strans. 765-768
    Poč.str.4 s.
    AkceInternational conference on phenomena in ionized gases - ICPIG /28./
    Datum konání15.07.2007-20.07.2007
    Místo konáníPraha
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovaBSTO ; thin films ; plasma deposition ; hollow cathode ; plasma jet
    Vědní obor RIVBL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    CEPKAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd
    1QS100100563 GA AV ČR - Akademie věd
    1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    AnotaceLow-pressure plasma jet system with two hollow cathodes was used for deposition of BaxSr1-xTiO3 (BSTO) ferroelectric thin films. High density pulse modulated RF hollow cathode discharge was generated in ceramic nozzles made of SrTiO3 and BaTiO3. In the experiment, the composition of BSTO films was controlled by magnitude of average RF power applied on particular plasma jet guns. X-ray diffraction proved that BSTO thin films were polycrystalline with perovskite structure. Time resolved Langmuir probe system and plasma impedance monitor were used for ´in situ´ plasma diagnostics and control of deposition conditions.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2009
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.