Počet záznamů: 1
Спосіб одержання опромінених частинок
- 1.
SYSNO ASEP 0576732 Druh ASEP P - Patent Zařazení RIV P - Patent nebo jiný výsledek chráněný podle zvláštních právních předpisů Název Спосіб одержання опромінених частинок Překlad názvu Method of production of irradiated particles Tvůrce(i) Cígler, Petr (UOCHB-X) RID, ORCID
Havlík, Jan (UOCHB-X) RID
Hrubý, Martin (UMCH-V) RID, ORCID
Kučka, Jan (UMCH-V) RID, ORCIDRok vydání 2023 Využití jiným subj. A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Lic. popl. A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Číslo pat.spisu UA127266 Datum udělení 28.06.2023 Vlastník patentu Ústav organické chemie a biochemie AV ČR v. v. i. - Ústav makromolekulární chemie AV ČR v. v. i Kód vydavatele patentu UA001 - State Department of Intellectual Property Kyiv Využití A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem Teritoriální ochrana NEU - národní patent v zemi mimo EU
PCT - mezinárodní patentová ochrana dle Smlouvy o patentové spolupráciJazyk dok. ukr - ukrajinština Klíč. slova nanodiamond ; nitrogen vacancy centers ; irradiation Obor OECD Biochemistry and molecular biology CEP LM2015064 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora UOCHB-X - RVO:61388963 ; UMCH-V - RVO:61389013 Anotace Даний винахід стосується способу опромінення іонами основи у вигляді частинок, що включає стадії включення основи у вигляді частинок у тверду матрицю, що містить атоми 10B, та
піддавання матриці, одержаної на попередній стадії, опроміненню потоком нейтронів з одержанням твердої матиці, що включає опромінену основу у вигляді частинок. Спосіб за
даним винаходом надзвичайно ефективний та піддається масштабуванню. Він, зокрема, придатний для одержання опромінених наноалмазів та опромінених частинок SiC.Překlad anotace The present invention relates to a process for ion irradiation of a particulate substrate, comprising the steps of: embedding particulate substrate in a solid matrix comprising 10B atoms, and exposing the matrix obtained in the previous step to a neutron flux, to give irradiated particulate substrate. The process of the invention is extremely effective and amenable to large scale. It is particularly suitable for producing irradiated nanodiamonds and irradiated SiC particles. Pracoviště Ústav organické chemie a biochemie Kontakt asep@uochb.cas.cz ; Kateřina Šperková, Tel.: 232 002 584 ; Jana Procházková, Tel.: 220 183 418 Rok sběru 2024 Elektronická adresa https://worldwide.espacenet.com/patent/search/family/063273431/publication/UA127266C2?q=UA127266C2
Počet záznamů: 1