Počet záznamů: 1  

Intensity distribution modulation of multiple beam interference pattern

  1. 1.
    SYSNO ASEP0567486
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevIntensity distribution modulation of multiple beam interference pattern
    Tvůrce(i) Jochcová, Dominika (FZU-D) ORCID
    Kaufman, Jan (FZU-D) ORCID
    Hauschwitz, Petr (FZU-D) ORCID
    Brajer, Jan (FZU-D) ORCID
    Vanda, Jan (FZU-D) RID, ORCID
    Celkový počet autorů5
    Zdroj.dok.MM Science Journal. - : MM publishing - ISSN 1803-1269
    Roč. 2019, Dec (2019), s. 3652-3656
    Poč.str.5 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovadirect Laser interference patterning ; multiple beam interference ; interference field simulation ; diffractive optical element ; laser microstructuring
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    Obor OECDOptics (including laser optics and quantum optics)
    CEPLM2015086 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    LO1602 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Způsob publikováníOpen access
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000532572200043
    EID SCOPUS85076599510
    DOI10.17973/MMSJ.2019_12_2019117
    AnotaceNanostructuring and microstructuring approaches frequently used in microelectronics manufacturing, such as electron beam lithography or nanoimprint lithography,are considerably slow.In order to reduce processing time,laser patterning methods based on interference of multiple beams have been developed.Within one laser pulse,a significant part of an irradiated area on a sample surface is patterned with desired micro- or sub-microstructures.Interference patterning goes beyond periodic lines and dots.Controlling the number of interfering beams,orientation of polarization vectors,relative phase shift,the beam angle of incidence allows to customize the intensity distribution on the sample surface.Simulations of various interference patterns were verified on CMOS camera using 1030nm laser diode.Based on these results,dot and line-like interference patterns were directly imprinted on the surface of carbon fiber reinforced polyether ether ketone plate by 1.8ps,11mJ las. pulses at 1030nm.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2023
    Elektronická adresahttps://hdl.handle.net/11104/0338735
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.